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Logitech LP50精密研磨拋光系統
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- 更新時間：2024-12-05
Logitech LP50精密研磨拋光系統為實驗室的研發提供一個極精密、多樣化的研磨拋光能力。它有三個工作站，通過操縱桿和LCD控制屏來進行操作，其設計能讓操作者的操作更快更方便，并能對工藝參數進行全面控制，實現高質量樣品的重復生產。 另外，LP50還有一種防次氯酸鈉拋光液的機型，可理想的用于需要進行化學機械拋光的工藝過程。
Logitech LP50精密研磨拋光系統為實驗室的研發提供一個極精密、多樣化的研磨拋光能力。它有三個工作站，研磨盤直徑35.6cm(14”) 或37cm (14.6”)，可同時放置三個PP5或PP6夾具進行工作。這樣的配置為研發型實驗室提供一個很靈活的操作儀器。
Logitech LP50精密研磨拋光系統是通過操縱桿和LCD控制屏來進行操作，其設計能讓操作者的操作更快更方便，并能對工藝參數進行全面控制，實現高質量樣品的重復生產。
根據每個工藝的要求，可以在工藝設置菜單中進行盤速的設置，設定值為0至70轉每分。工藝時間也可以進行調節，可設定到zui多10小時，并且會在上邊顯示已用去的時間。因此沒有必要一直在旁邊監視儀器的運轉，因為在設定時間后過程就會自動停止.
儀器擁有堅固的聚氨酯外殼，方便清洗，并有盛廢液的可移除托盤，將廢液導入到廢料管中。這一堅固的現代化結構適用于多數嚴格的研磨拋光環境。另外，還有一種防次氯酸鈉拋光液的機型，可理想的用于需要進行化學機械拋光的工藝過程。
· 外形尺寸：
長：662毫米
寬：616毫米
高：635毫米(不包括料桶)
凈重：80公斤
盤子尺寸：35厘米和37厘米
· 性能指標：
電壓：220伏,50赫茲
電流：10安
盤速：5－70轉/分鐘
定時器：zui大10小時
擺臂范圍：0－100%
